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高伟民以“光刻技术的现状与发展”为主题，阐述了摩尔定律和半导体产业发展、光刻技术发展等内容。高伟民认为，随着芯片制程的发展，传统芯片工艺节点命名的方法已不够准确杭州求是技术有限公司，需要提出一种新的命名方法来标志半导体行业的发展。GMT度量法或将成为新的主流命名法之一，建议采用栅极间距（G）、金属间距（M）、层数（T）这三项指标来命名芯片制造的工艺节点。摩尔定律不仅是尺寸的缩放，更是多维、互补的创新驱动。高伟民表示，光刻技术是摩尔定律发展的关键组成部分，并着重介绍了当今世界最先进的EUV光刻机的特色与发展历程。他表示，EUV相较DUV拥有更短的波长杭州求是技术有限公司，在光刻精密图案方面自然更具优势，能够减少工艺步骤，提升良率。据悉，高伟民是资深的光刻技术专家，拥有超过20年先进光刻技术研发经验，在EUV光刻技术的开发和应用方面积累了丰富的经验。

会上，傅新、张龙飞先后围绕“浸没式光刻机的浸液系统”“微型精密伺服控制系统介绍”等主题展开讲座，深入浅出阐述了当下光刻技术的要点难点。据悉，傅新是光刻技术领域资深专家，承担着国家02光刻机领域科技重大专项；张龙飞在精密运动控制、机器人等方向，有超过十年的产品研发经验。

会上，现场观众还和与会专家就光刻技术问题进行了交流讨论。本次研讨会由西盟半导体负责人徐若松主持。求是缘半导体联盟理事长陈荣玲和副理事长韩雁分别做了致辞和会后总结发言。